上海芯上微裝科技股份有限公司(簡稱“芯上微裝”，AMIES)近日宣布，其自主研發的350nm步進投影光刻機(AST6200)已順利通過國内化合物半導體領域頭部客戶的工藝驗證，并成功獲得批量重複訂單。
早在2025年11月，芯上微裝首台AST6200光刻機即已完成出廠調試與驗收，正式發往客戶現場。作為面向化合物半導體及先進顯示制程的核心裝備，AST6200可廣泛應用于功率器件、射頻前端、光電子芯片及Micro LED新型顯示等場景，并在關鍵工藝效果、工藝适應性與軟件自主化三大維度展現出突出優勢。
關鍵工藝效果方面，AST6200搭載高性能投影物鏡與先進照明模式，穩定實現350nm高分辨率精細圖形化能力，全面覆蓋Si、SiC、GaN、GaAs、InP、藍寶石等多種襯底材料的光刻需求。
高精度對準系統保障多層圖形之間的精準套刻，顯著提升器件良率;同時，高照度光源、高速基底傳輸系統及高動态運動台的協同設計，大幅提高單位時間産出效率，有效降低客戶單顆芯片的綜合擁有成本(COO)。
強大工藝适應性方面，該設備創新設計的調焦調平系統，可穩定測量透明、半透明、不透明及大台階等多種基底，确保複雜襯底條件下的曝光質量。平邊對準和背面對準模塊的加入，使其能夠滿足特殊基底晶向解理、鍵合片對位等複雜制程需求。
此外，AST6200支持2英寸至8英寸多種規格基片，兼容平邊、雙平邊、Notch等主流基底類型，真正實現“一機多用”，為客戶産線切換帶來極大的靈活性。
全棧自主的軟件控制系統同樣是AST6200的核心亮點。該系統由芯上微裝自主研發，從底層驅動到上層工藝管理實現100%自主可控，具備強大的工藝擴展能力與遠程運維功能，可持續為設備全生命周期賦能，助力客戶構建智能化、高效率的産線運營體系。
此次批量重複訂單的獲取，不僅驗證了AST6200在真實量産環境中的穩定性和可靠性，也進一步鞏固了芯上微裝在化合物半導體光刻裝備領域的市場地位。
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