7月9日消息，國内半導體設備廠商至純科技近日在互動平台表示，目前至純科技的28 nm節點全部濕法工藝設備已認證。
芯片制造分為邏輯芯片設計、芯片代工、封裝測試三大環節。芯片代工包括晶圓制造、曝光、刻蝕、清洗等過程。濕法清洗設備屬于半導體供應鍊中的清洗環節。清洗是根據不同芯片工藝的要求，對矽晶圓表面進行無損清洗，清洗芯片制造過程中殘留的顆粒、曝光和腐蝕過程形成的自然氧化層，以及金屬污染、有機物、犧牲層、抛光殘留物等雜質。清潔環節占芯片制造工藝步驟的30%以上，在芯片制造工藝步驟中，清潔環節所占比例。
至純科技表示，目前國内有三家在濕法工藝設備端提供中濕法工藝設備，分别是至純科技、北方華創和盛美，國内廠商的市場份額逐年上升。
信息顯示，至純科技成立于2000年，主營高純工藝系統的研發、生産與銷售；半導體濕法清洗設備的研發、生産與銷售；光傳感應用及相關光學元件的研發、生産和銷售。業績顯示，至純科技2020年濕法設備出貨量超過30台，新增訂單5.3億元，增長211.8%。
除28nm工藝節點外，上海證券報還指出，到純科技14nm和7nm工藝預計将在2022年得到客戶的驗證，包括中芯國際、華虹集團、長鑫存儲、華為、台灣力晶等行業者。
值得注意的是，上個月，中國電子信息産業發展研究院電子信息研究所所長溫曉君在一次采訪中說：我國将在2022年底完成14納米制程設備的突破，至純科技将于2022年交付給華為、中芯國際認證的14納米和7納米清洗設備，這也在一定程度上提高了其可靠性。
免責聲明：本文僅代表作者個人觀點，與每日科技網無關。其原創性以及文中陳述文字和内容未經本站證實，對本文以及其中全部或者部分内容、文字的真實性、完整性、及時性本站不作任何保證或承諾，請讀者僅作參考，并請自行核實相關内容。
本網站有部分内容均轉載自其它媒體，轉載目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責，若因作品内容、知識産權、版權和其他問題，請及時提供相關證明等材料并與我們聯系，本網站将在規定時間内給予删除等相關處理.
