中芯國際續單ASML光刻機後 國産光刻膠迎重大進展

　　周一(8日)盤後，上海新陽公告稱，經各方積極協商、運作，ASML-1400光刻機設備于今日已進入合作方北方集成電路技術創新中心(北京)有限公司場地，後續将進行安裝調試等相關工作。公司采購的ASML幹法光刻機設備順利交付，對加快193nmArF幹法光刻膠産品開發進度有積極影響。

　　值得注意的是，天眼查數據顯示，合作方北方集成電路技術創新中心(北京)有限公司的股東為核心鍊融創集成電路産業發展(北京)有限公司，該公司由26家國内半導體企業共同出資組建，其中包括北京凱世通半導體有限公司。北京亦莊和中芯國際的股權比例分别為25%和25%，位居第二。

　　項目立項4年屢次受挫，國産替代浪潮終現曙光。

　　對上海新陽自身而言，ASML幹式光刻機設備的順利交付意義非凡。據公開資料顯示，早在2016年底，上海新陽就已經開始研發193納米幹法光刻膠，但在後續的研發過程中，進展卻一再受挫。

　　2017年3月，上海新陽和上海逸納共同出資，成立芯刻微，從事193nm幹法高端光刻膠産品的研發及産業化，但兩家公司在次年5月終止合作;同年12月，兩家公司以自有資金投資江蘇博硯電子科技有限公司，并擁有博硯電子公司10%股權，後者主要從事與平闆顯示行業相關的光刻膠産品的研發、生産。

　　上海新陽将于2019年10月啟動合肥二号生産基地項目。合肥基地占地115畝，總投資約6億元。按規劃，一期投資3億元，占地50畝，建成投産後形成年産超純化工産品15000噸的生産能力。按照公司在定增公告中的說法，此次定增計劃将部分資金用于該項目。

　　到2020年，上海新陽對這一項目的投資将更加激進。八月份，公司公告拟追加募資不超過15億元，其中7.32億元用于集成電路制造用高端光刻膠的研發，産業化。重點發展ArF幹法生産用光刻膠及面向3DNAND級腐蝕的KrF厚膜光刻膠産品，力争到2023年實現上述産品的産業化。

　　11月份，公司再次公告，拟向特定對象發行股票不超過14.5億元的募集資金中，有8.15億元将用于上述項目。如項目進展順利，預計KrF厚膜光刻膠項目将于2021年開始量産，2022年可量産，ArF(幹式)光刻膠項目預計于2022年開始量産，2023年開始量産，各産品的年預計銷售收入合計将接近2億元。

　　去年3月16日，東吳證券分析師柴沁虎在報告中指出，上海新陽一直緻力于半導體光刻膠産業化，雖然中間經曆了一段彎路，但參股博硯電子後，可以有效地借鑒博硯電子的成功經驗。與此同時，公司與博硯電子也有一定程度的産業協同，認為公司是國内最有可能率先在集成電路用高端光刻膠領域實現實質性突破的企業。

　　關鍵設備“松綁”阿斯麥國産高端光刻膠持續突破。

　　自去年以來，國産替代浪潮席卷半導體産業，而光刻膠作為半導體光刻工藝的核心材料，決定着半導體制圖工藝的度和良率，成為最為引人注目的環節之一。

　　2015年12月17日，南大光電公告，控股子公司甯波南大光電自主研發的193nmArF光刻膠産品成功通過客戶使用證明，标志着ArF光刻膠國内通過産品驗證的國産産品誕生，标志着長期以來被國外壟斷的ArF光刻膠最終走向國産化。

　　根據不同的工藝路線，半導體光刻膠可以分為EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠和G線、i線光刻膠，前三種光刻膠都是高端産品，産業信息網的數據顯示，到2019年國内g/i線光刻膠隻有20%的自給率，KrF光刻膠自給率不足5%，而KrF光刻膠則完全依靠進口。

　　國内高端光刻膠替代産品困難的背後，是國内企業在研發過程中嚴重依賴高端光刻膠。因為光刻膠的研制開發需要有相應光刻機的支持，量産後需要在光刻機上進行連續調試。而且光刻機價格昂貴，國内半導體材料企業承受不了，因此高端光刻膠基本被日本和歐美壟斷。

　　本月3日，中芯國際宣布，已與荷蘭光刻機制造商阿斯麥簽署12.02億美元的采購合同。另外，科創闆日報1日獲悉，為中芯國際提供高制程(14nm及以上)工藝部件所需設備的美國設備制造商已獲美許可證。

　　針對這一情況，華金證券胡慧小組3月7日發布報告稱，中芯國際14nm及以上成熟制程禁令“松綁”，表明我國大陸晶圓代工龍頭在成熟制程上的發展前景更加明朗，未來美國設備供應商有望獲得更多的供貨許可。

　　當日中金公司彭虎團隊報告也指出，半導體設備和材料是高端制造業發展的基礎，在獲得美國設備許可的同時，中芯國際建議重點關注上遊設備和原材料。

　　另外，據華泰證券胡劍團隊2020年11月18日報道，在半導體供應鍊安全日益受到重視的背景下，國産光刻膠的研發與量産或将加速，國内廠商計劃擴大被日美壟斷的半導體光刻膠領域的投資，并在高端ArF光刻膠領域的研發與量産方面持續突破。