【每日科技網】
中芯國際是大陸的晶圓代工廠，它的一舉一動令人動容。
最近有報道稱，經過14nm工藝的大規模量産，中芯國際的N+1代工藝已進入了客戶導入階段，預計2021年可實現量産。
作為回應，中芯國際表示，其第一代FinFET14nm工藝已在2019年第四季度投産，第二代FinFETN+1工藝已進入客戶導入階段，預計将在2020年底實現小批量試産。
根據這一時間表推測，中芯國際N+1代工藝将于2021年正式投産。
N+1是中芯國際為其第二代先進工藝設計的代号，但并沒有明确的數字節點，隻是表示N+2工藝與14nm工藝相比，性能提高了20%，功耗減少了57%，邏輯面積減少了63%,SoC面積減少了55%，之後N+2工藝的性能和成本有所提高。
八月末，中芯國際曾表示，N+1工藝進展順利，已進入客戶産品驗證階段。
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