原速科技完成 B + 輪融資 深耕 ALD 技術加速薄膜材料制備領域突破

　　近日，專注于原子層沉積(ALD)系統設計與工藝研發的高科技企業 —— 原速科技宣布完成 B + 輪融資。此次融資将為公司在核心技術突破、全球市場布局拓展等方面注入新動能，助力其持續深耕薄膜材料制備技術，為多個産業領域提供更優質的一體化解決方案。

　　聚焦 ALD 技術，打造全鍊條服務能力

　　原速科技作為國内原子層沉積(ALD)技術領域的領先者，深耕于薄膜材料制備這一高精尖領域。原子層沉積技術是一種可以在基片表面通過化學反應逐層沉積薄膜的方法，具有沉積薄膜均勻性好、厚度可控性高、台階覆蓋率優異等特點，在衆多高端制造領域有着不可替代的作用。

　　公司集設備設計、工藝開發與技術咨詢于一體，構建起了完整的服務鍊條。通過自主研發的 ALD 系統，結合針對性的工藝方案，能夠滿足不同行業對薄膜材料在性能、厚度、均勻性等方面的個性化需求，為産業技術升級提供堅實的技術支撐。

　　多領域廣泛應用，推動産業創新發展

　　原速科技的一體化薄膜材料制備解決方案已在多個高精尖領域實現廣泛應用：

　　柔性顯示領域：借助 ALD 技術制備的功能性薄膜，可提升柔性顯示屏的耐彎折性、透光性和使用壽命，助力柔性顯示技術向更輕薄、更耐用方向發展;

　　光學鍍膜領域：能制備出高精度的光學薄膜，應用于鏡頭、濾光片等光學元件，提高其光學性能，滿足高端光學設備的需求;

　　太陽能電池領域：通過在電池表面沉積特定薄膜，可增強光吸收能力、降低光反射，從而提高太陽能電池的轉換效率;

　　锂電池領域：利用 ALD 技術在電極或隔膜表面制備保護層，能夠提升锂電池的循環穩定性、安全性和能量密度，推動锂電池性能優化。

　　融資助力發展，劍指全球市場

　　此次 B + 輪融資的完成，是資本市場對原速科技在 ALD 技術領域實力與發展潛力的認可。借助這筆資金，公司将進一步加大在核心技術研發上的投入，持續優化 ALD 系統性能與工藝方案，突破更多技術瓶頸。

　　同時，資金也将支持原速科技加速全球市場布局，拓展海外業務，将其先進的薄膜材料制備解決方案推向更廣闊的國際舞台，與全球同行展開競争與合作，推動相關産業在全球範圍内的技術升級與創新發展。

　　在薄膜材料制備技術日益受到重視的當下，原速科技憑借其技術積累與此次融資的助力，有望在該領域取得更大突破，為我國高端制造産業的發展貢獻重要力量。